
2026-04-11
Химическое осаждение из паровой фазы: в условиях низкого давления (иногда может проводиться и при нормальном давлении) на поверхности твердого тела происходит химическая реакция с использованием газообразных веществ, в результате чего образуется твердый осадок с хорошей матрицей. Этот процесс называется химическим осаждением из паровой фазы, например, осаждение из паровой фазы оксида кремния, нитрида кремния и т. д. Химическое осаждение из паровой фазы позволяет точно контролировать химический состав и структуру покрытия для достижения осаждения на атомном уровне. Этот метод часто используется для получения высокоэффективных тонкопленочных материалов, отвечающих потребностям высокотехнологичных областей, таких как полупроводники и оптика.
Компания IKS PVD предлагает оборудование для декоративных покрытий, оборудование для нанесения покрытий на инструменты, оборудование для нанесения DLC-покрытий, оборудование для нанесения оптических покрытий, вакуумные линии PVD-покрытия и проекты «под ключ». Свяжитесь с нами прямо сейчас, E-mail: iks.pvd@foxmail.com